近日，中国建筑一局（集团）有限公司（简称中建一局）中标世界最先进10纳米级闪存生产线-西安三星半导体FAB厂房主体工程，建筑面积25万平米，合同金额近13亿元。
该工程位于陕西省西安市高新区，是国家重点工程，建成后将是世界最先进的10纳米级 NAND Flash(闪存)生产线。同时，该工程使用预制混凝土构件应用于大型高科技电子厂房建设中，使用量之大在中国尚属首次，为未来高科技厂房的建设提供了新思路，并对国内逐渐兴起的装配式结构的应用起了积极的推动作用。（中建一局供稿）
